ナノ秒パルスCO2レーザ UPL シリーズ
- レーザ発振器
- ナノ秒パルスCO2レーザ UPL シリーズ
ナノ秒の短パルスレーザなので、熱影響を最小限に抑えられます。
加工内容に合わせ、パルス波形を3種類から任意に選択できます。
ナノ秒パルスCO2レーザ UPL シリーズ仕様
UPLシリーズの特徴
- パルス幅をナノ秒まで短くしたことにより、レーザ照射部のＨＡＺ（熱影響域）を最小限に抑えた非熱的な加工を実現
- 波長は10.6μmなので、水分や樹脂に対しても高い吸収率で効率的な加工を実現
- 発振器、駆動回路、冷却機構を一体化にしたコンパクト設計
- 日本での開発設計製造による安定供給と充実のサービス体制
- パルス波形をロングパルス、テール付き短パルス、テールフリー短パルスから選択可能（下図参照）
- 高効率を実現した省エネ設計
加工事例
ナノ秒パルスCO2レーザ UPLシリーズ仕様
| UPL-01 | UPL-02 | |
|---|---|---|
| 発振方式 | 軸方向パルス放電励起方式 | |
| ガス供給方式 | ガスフロー方式 | 封じ切り方式 |
| 冷却方式 | 強制空冷（油循環冷却） | 強制空冷 |
| 最大繰り返し周波数 | 100 Hz |
20Hz |
| 装置サイズ | W804 × D320 × H365 mm | W980 × D410 × H210 mm |
| 重量 | 50kg | |
| 入力 | 100V AC , 3A | |
| 使用時周囲温度 ／ 湿度 | 10～35℃ ／ 5～85% ※1 | |
| 保管時周囲温度 ／ 湿度 | -5 ～ 55℃ ／ 5～95% ※1 | |
※1 但し、結露無き事。
レーザ発振波形ごとの仕様（UPL-01)
| ロングパルス | テール付き短パルス | テールフリー短パルス | |
|---|---|---|---|
| 出力 | 50mJ/パルス | 50mJ/パルス | 5mJ/パルス |
| 発振周波数 | 間欠100pps (Duty 20%) 連続 20pps |
間欠100pps (Duty 20%) 連続 20pps |
間欠50pps (Duty 40%) 連続 20pps |
特注対応事例
- ＜樹脂チューブ加工装置 MS-UPL01＞
- UPL-01を内蔵したレーザ加工システム。
ナノ秒パルスCO2レーザ UPL シリーズ 紹介動画
短パルス co2レーザ によるガラスのアブレーションプラズマ
短パルス CO2レーザ によるガラスのアブレーションプラズマ 山梨大学宇野研究室：http://www.ccn.yamanashi.ac.jp/~kuno/ 精電舎電子工業㈱：http://www.sedeco.co.jp/ 山梨大学宇野研究室と精電舎電子工業㈱が共同研究開発した短パルス CO2レーザ をガラス表面に照射しています。 アブレーションプラズマが発生している様子が確認できます。 ナノ秒パルスレーザの応用例としては、表面改質の新たな手法として、「レーザドーピング」や「ピーニング」、「クリーニング」、「製膜及び膜の焼成」といった分野で研究が進められています。 また「ナ ノファイバー製造」への応用、「水中アブレーション」の効果を利用した技術への展開も期待されています。
短パルス CO2レーザ によるシリコンのアブレーションプラズマ
短パルス CO2レーザ によるシリコンのアブレーションプラズマ 山梨大学宇野研究室：http://www.ccn.yamanashi.ac.jp/~kuno/ 精電舎電子工業㈱：http://www.sedeco.co.jp/ 山梨大学宇野研究室と精電舎電子工業㈱が共同研究開発した短パルス CO2レーザ をシリコンゴム表面に照射しています。 アブレーションプラズマが発生している様子が確認できます。 ナノ秒パルスレーザの応用例としては、表面改質の新たな手法として、「レーザドーピング」や「ピーニング」、「クリーニング」、「製膜及び膜の焼成」といった分野で研究が進められています。 また「ナノファイバー製造」への応用、「水中アブレーション」の効果を利用した技術への展開も期待されています。
