ナノ秒パルスCO2レーザ UPL シリーズ

レーザ発振器: ナノ秒パルスCO2レーザ UPL シリーズ

ナノ秒の短パルスレーザなので、熱影響を最小限に抑えられます。
加工内容に合わせ、パルス波形を3種類から任意に選択できます。
ナノ秒パルスCO2レーザ UPL シリーズ仕様

UPLシリーズの特徴

パルス幅をナノ秒まで短くしたことにより、レーザ照射部のＨＡＺ（熱影響域）を最小限に抑えた非熱的な加工を実現
波長は10.6μmなので、水分や樹脂に対しても高い吸収率で効率的な加工を実現
発振器、駆動回路、冷却機構を一体化にしたコンパクト設計
日本での開発設計製造による安定供給と充実のサービス体制
パルス波形をロングパルス、テール付き短パルス、テールフリー短パルスから選択可能（下図参照）
高効率を実現した省エネ設計

加工事例

ナノ秒パルスCO2レーザ UPLシリーズ仕様

	UPL-01	UPL-02
発振方式	軸方向パルス放電励起方式
ガス供給方式	ガスフロー方式	封じ切り方式
冷却方式	強制空冷（油循環冷却）	強制空冷
最大繰り返し周波数	100 Hz	20Hz
装置サイズ	W804 × D320 × H365 mm	W980 × D410 × H210 mm
重量		50kg
入力	100V AC , 3A
使用時周囲温度／湿度	10～35℃ ／ 5～85% ※1
保管時周囲温度／湿度	-5 ～ 55℃ ／ 5～95% ※1

※1　但し、結露無き事。

レーザ発振波形ごとの仕様（UPL-01)

	ロングパルス	テール付き短パルス	テールフリー短パルス
出力	50mJ/パルス	50mJ/パルス	5mJ/パルス
発振周波数	間欠100pps (Duty 20%) 　　連続 20pps	間欠100pps (Duty 20%) 　　連続 20pps	間欠50pps (Duty 40%) 　　連続 20pps

特注対応事例

＜樹脂チューブ加工装置　MS-UPL01＞
UPL-01を内蔵したレーザ加工システム。

ワークの回転／送りとレーザ照射を連動させることで樹脂チューブの任意の箇所に微細な穴あけ加工が可能です。

ナノ秒パルスCO2レーザ UPL シリーズ紹介動画

短パルス co2レーザによるガラスのアブレーションプラズマ

短パルス CO2レーザによるガラスのアブレーションプラズマ山梨大学宇野研究室：http://www.ccn.yamanashi.ac.jp/~kuno/ 精電舎電子工業㈱：http://www.sedeco.co.jp/ 　山梨大学宇野研究室と精電舎電子工業㈱が共同研究開発した短パルス CO2レーザをガラス表面に照射しています。アブレーションプラズマが発生している様子が確認できます。ナノ秒パルスレーザの応用例としては、表面改質の新たな手法として、「レーザドーピング」や「ピーニング」、「クリーニング」、「製膜及び膜の焼成」といった分野で研究が進められています。また「ナノファイバー製造」への応用、「水中アブレーション」の効果を利用した技術への展開も期待されています。

短パルス CO2レーザによるシリコンのアブレーションプラズマ

短パルス CO2レーザによるシリコンのアブレーションプラズマ山梨大学宇野研究室：http://www.ccn.yamanashi.ac.jp/~kuno/ 精電舎電子工業㈱：http://www.sedeco.co.jp/ 　山梨大学宇野研究室と精電舎電子工業㈱が共同研究開発した短パルス CO2レーザをシリコンゴム表面に照射しています。アブレーションプラズマが発生している様子が確認できます。ナノ秒パルスレーザの応用例としては、表面改質の新たな手法として、「レーザドーピング」や「ピーニング」、「クリーニング」、「製膜及び膜の焼成」といった分野で研究が進められています。また「ナノファイバー製造」への応用、「水中アブレーション」の効果を利用した技術への展開も期待されています。