製品紹介 | PRODUCTS INTRODUCTION

ナノ秒パルスCO2レーザ UPL シリーズ

レーザ発振器
ナノ秒パルスCO2レーザ UPL シリーズ

ナノ秒の短パルスレーザなので、熱影響を最小限に抑えられます。
加工内容に合わせ、パルス波形を3種類から任意に選択できます。
ナノ秒パルスCO2レーザ UPL シリーズ仕様

UPLシリーズの特徴

  • パルス幅をナノ秒まで短くしたことにより、レーザ照射部のHAZ(熱影響域)を最小限に抑えた非熱的な加工を実現
  • 波長は10.6μmなので、水分や樹脂に対しても高い吸収率で効率的な加工を実現
  • 発振器、駆動回路、冷却機構を一体化にしたコンパクト設計
  • 日本での開発設計製造による安定供給と充実のサービス体制
  • パルス波形をロングパルス、テール付き短パルス、テールフリー短パルスから選択可能(下図参照)
  • 高効率を実現した省エネ設計

加工事例




ナノ秒パルスCO2レーザ UPLシリーズ仕様

UPL-01 UPL-02
発振方式 軸方向パルス放電励起方式
ガス供給方式 ガスフロー方式 封じ切り方式
冷却方式 強制空冷(油循環冷却) 強制空冷
最大繰り返し周波数 100
Hz
20Hz
装置サイズ W804 × D320 × H365 mm W980 × D410 × H210 mm
重量 50kg
入力 100V AC , 3A
使用時周囲温度 / 湿度 10~35℃ / 5~85% ※1
保管時周囲温度 / 湿度 -5 ~ 55℃ / 5~95% ※1

※1 但し、結露無き事。

レーザ発振波形ごとの仕様(UPL-01)

ロングパルス テール付き短パルス テールフリー短パルス
出力 50mJ/パルス 50mJ/パルス 5mJ/パルス
発振周波数 間欠100pps (Duty 20%)
  連続 20pps
間欠100pps (Duty 20%)
  連続 20pps
間欠50pps (Duty 40%)
  連続 20pps

特注対応事例

  • <樹脂チューブ加工装置 MS-UPL01>
  • UPL-01を内蔵したレーザ加工システム。
  • ワークの回転/送りとレーザ照射を連動させることで樹脂チューブの任意の箇所に微細な穴あけ加工が可能です。
  • ナノ秒パルスCO2レーザ UPL シリーズ 紹介動画

    短パルス co2レーザ によるガラスのアブレーションプラズマ

    短パルス CO2レーザ によるガラスのアブレーションプラズマ 山梨大学宇野研究室:http://www.ccn.yamanashi.ac.jp/~kuno/ 精電舎電子工業㈱:http://www.sedeco.co.jp/   山梨大学宇野研究室と精電舎電子工業㈱が共同研究開発した短パルス CO2レーザ をガラス表面に照射しています。 アブレーションプラズマが発生している様子が確認できます。 ナノ秒パルスレーザの応用例としては、表面改質の新たな手法として、「レーザドーピング」や「ピーニング」、「クリーニング」、「製膜及び膜の焼成」といった分野で研究が進められています。 また「ナ ノファイバー製造」への応用、「水中アブレーション」の効果を利用した技術への展開も期待されています。

    短パルス CO2レーザ によるシリコンのアブレーションプラズマ

    短パルス CO2レーザ によるシリコンのアブレーションプラズマ 山梨大学宇野研究室:http://www.ccn.yamanashi.ac.jp/~kuno/ 精電舎電子工業㈱:http://www.sedeco.co.jp/   山梨大学宇野研究室と精電舎電子工業㈱が共同研究開発した短パルス CO2レーザ をシリコンゴム表面に照射しています。 アブレーションプラズマが発生している様子が確認できます。 ナノ秒パルスレーザの応用例としては、表面改質の新たな手法として、「レーザドーピング」や「ピーニング」、「クリーニング」、「製膜及び膜の焼成」といった分野で研究が進められています。 また「ナノファイバー製造」への応用、「水中アブレーション」の効果を利用した技術への展開も期待されています。